塑料成型工藝中描（miáo）述的拋光（guāng）與其他（tā）行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵（miàn）平整度、的平滑度和幾何精度也有很（hěn）高的（de）標準。表麵拋光（guāng）通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對（duì）於（yú）電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確（què）地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精密模具（jù）主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋（pāo）光主要使用砂紙實驗室和煤油協（xié）會。

　　2、精密拋光主要製作金（jīn）剛（gāng）石膏（gāo）。通（tōng）常的（de）磨削，以除（chú）去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離（lí）開頭發的痕跡，拋（pāo）光布為（wéi）9um的金剛（gāng）石研磨膏你可以使用方向盤（pán）。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料（liào）進行拋（pāo）光。要求精度為1微米或更（gèng）大（包括1微米（mǐ））的拋光工藝

必須是絕對清（qīng）潔（jié）的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液（yè）可能具有高精度（dù）拋光表麵，可在（zài）工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的（de）基本程序，高質量的拋光（guāng）效果，最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏（gāo）等配件。最重要（yào）的是一個複雜的工作（zuò）環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況（kuàng），例如（rú）、 EDM加工，磨削。

　　4、機械（xiè）拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的（de）旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的（de）方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子（zǐ）去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑（jì）。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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